Titāna izsmidzināšanas mērķi ar augstu tīrības pakāpi

Titāna izsmidzināšanas mērķi ar augstu tīrības pakāpiir izsmidzināšanas avoti, kas veido dažādas funkcionālas plānas kārtiņas uz substrātiem, izmantojot magnetronu izsmidzināšanu, daudzloku jonu pārklājumu vai cita veida pārklājuma sistēmas atbilstošos procesa apstākļos. Vienkārši sakot, mērķa materiāls ir mērķa materiāls, ko bombardē liela ātruma uzlādētas daļiņas.

To izmanto augstas enerģijas lāzerieročos. Kad lāzeri ar dažādu jaudas blīvumu, dažādām izejas viļņu formām un dažādiem viļņu garumiem mijiedarbojas ar dažādiem mērķiem, tie radīs dažādus nogalināšanu un bojājumus. efekts. Piemēram: iztvaikošanas magnetrona izsmidzināšanas pārklājums ir sildošs iztvaikošanas pārklājums, alumīnija plēve un tā tālāk. Nomainot dažādus mērķa materiālus (piemēram, alumīnija, vara, nerūsējošā tērauda, ​​titāna, niķeļa mērķus utt.), var iegūt dažādas plēvju sistēmas (piemēram, supercietas, nodilumizturīgas, pretkorozijas sakausējuma plēves utt.).

Parametri

Iespējas

1. Viegls svars

2. Augsta īpatnējā izturība

3. Izturība pret koroziju

4. Augstas un zemas temperatūras izturība

Lietojumprogrammas

★ Kuģu būve ★ Elektrolītiskā pārklāšana ★ Kosmosa aviācija ★ Ķīmiskā rūpniecība ★ Medicīnas iekārtas

Sīkāka informācija

Izgatavots no augstas kvalitātes izejmateriāliem, nodilumizturīgs un izturīgs pret koroziju, ilgstoši lietojams

Uz virsmas nav nolobītu plaisu, nav eļļas traipu, gluda un tīra sānu virsma

Pilnīgas specifikācijas, patvaļīga griešana, atbalsta nestandarta pielāgošanu

Mērķa materiāla tīrībai ir liela ietekme uz filmas veiktspēju. Tīrība ir viens no mērķa darbības rādītājiem.

Tīrība

Mērķa tīrība ir viens no galvenajiem mērķa darbības rādītājiem, jo ​​mērķa tīrība lielā mērā ietekmē filmas veiktspēju. Tomēr faktiskajos lietojumos mērķa materiāla tīrības prasības nav vienādas. Piemēram, strauji attīstoties mikroelektronikas nozarei, silīcija plāksnītes izmērs tika palielināts no 6 ", 8" līdz 12 ", vadu platums tika samazināts no 0,5 um uz 0. 25 um, 0,18 um un 0,13 um. Iepriekš mērķa tīrība bija 99,995 procenti.

Piemaisījumu saturs

Galvenais nogulsnētās plēves avots ir mērķa cietvielu un poru skābeklis un mitrums. Mērķiem dažādiem lietojumiem ir atšķirīgas prasības dažādiem piemaisījumu līmeņiem. Piemēram, tīra alumīnija un alumīnija sakausējumu mērķiem, ko izmanto pusvadītāju rūpniecībā, ir īpašas prasības attiecībā uz sārmu metālu saturu un radioaktīvo elementu saturu.

Blīvums

Lai samazinātu mērķa cieto vielu poras un uzlabotu izsmidzināto plēvju veiktspēju, mērķiem parasti ir jābūt blīvākiem. Mērķa blīvums ietekmē ne tikai izsmidzināšanas ātrumu, bet arī plēves elektriskās un optiskās īpašības. Jo lielāks mērķa blīvums, jo labāka ir filmas veiktspēja. Turklāt, palielinot mērķa blīvumu un intensitāti, mērķis var izturēt termisko spriegumu izsmidzināšanas laikā. Blīvums ir viens no mērķa darbības rādītājiem.

Graudu lielums un izmēru sadalījums

Parasti mērķis ir polikristālisks, un daļiņu izmērs var būt no mikrometriem līdz milimetriem. Viena un tā paša mērķa gadījumā smalkgraudainā mērķa izsmidzināšanas ātrums ir ātrāks nekā rupji graudainā mērķa izsmidzināšanas ātrums, savukārt mazāka izmēra (vienmērīgs sadalījums) mērķa izsmidzināšanas ātrums ir vienmērīgs biezuma sadalījums (viendabīgs). . Izplatīšana.

Ja jūs interesētitāna izsmidzināšanas mērķi ar augstu tīrības pakāpi, lūdzu, sazinieties ar mums:

E-pasts:zhangjixia@bjygti.com

Mājas lapa:http://www.toptitech.com

Populāri tagi: titāna izsmidzināšanas mērķi ar augstu tīrības pakāpi, Ķīna, piegādātāji, ražotāji, pielāgoti, lietojums, cenrādis, pārdošanai, noliktavā, bezmaksas paraugs, porains materiāls